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前世,EUV光刻机的联合研发成功几乎逼近当时人类物理学、材料学以及精密制造的极限,除了光源功率要求极高,透镜和反射镜系统也极致精密,还需要真空环境,配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高,别说ASmL或Nikon,就算是科技实力世界第一的美国,以一国之力,完全自主制造一台EUV光刻机,比登天还难。

EUV光刻机被称为人类工业皇冠上的明珠!

汤普森院士团队虽然没有研制成功EUV,但研究成果对GcA的光源和光学精密设备的不断改进贡献极大。

由于孙健重生,濒临破产倒闭的GcA浴火重生,重回全球光刻机的龙头企业之一,成为EUV LLc联盟的重要成员,汤普森院士团队专门研究EUV光源7年,取得了不少重要技术成果,EUV LLc联盟研制成功EUV光刻机,肯定不需要15年。

GcA将成为全球唯一生产EUV光刻机的厂家,AtIc将成为最大的受益者,虽然孙健也乐见其成,但以美国人的性格,极有可能让AtIc交出GcA的控股权,严禁出口EUV到中国,这不是重生者愿意看到的结果。

前世被美国技术封锁,举国之力,孙健穿越前没有看到国产EUV光刻机的影子。

经过一年多的努力,bSEc已经研究成功8英寸晶圆、250nm制程工艺的光刻机,正在抓紧时间研制180nm制程工艺的光刻机。

制程工艺不断突破对bSEc来说都是突飞猛进的进步,但同Nikon和GcA相比,还有2代技术差距,没有大肆宣传,避免被仇视中国的美国国会议员盯上。

不到10年时间,从4代技术差距缩短到2代,bSEc的管理层和技术人员都尽力了。

孙健知道,要是没有65nm制程工艺这道难关挡在光刻机业界的前面,有他出钱出力,bSEc在15年内也很难赶上光刻机技术实力雄厚的GcA和Nikon。

连李昌杰都不知道,bSEc研究院院长邓国辉院士和所长钱富强研究员率领光源研究所的140多名研发人员,经过2年半的潜心研究,有孙健不断“点拨”,终于在去年7月研制成功浸没式光刻系统技术,ArF激光器发射的193nm光源通过纯净水的折射,得到了波长134nm的光源,解决了业界遇到的193nm波长的世界级难题,还没有申请公司发明专利,秘而不宣。

只能委屈钱富强和140多名研发人员了。

研究员钱富强凭借主持研发成功浸没式光刻系统技术,攻克这项光刻机光源上的世界级难题,凭借这一世界级的重大科研成果,就能申请工程院院士。

邓国辉和钱富强从去年8月开始立项,bSEc投资1亿元,带领光源研究所,静下心来开始研发EUV。

作为上市公司,bSEc发布公告,投资1亿元继续研究193nm波长的世界级难题。

即使能得到蔡司公司最先进的透镜和反射镜系统,有资金支持,孙健也怀疑bSEc研究院在20年内能否研制成功EUV光刻机?

停止研究也不可能买到EUV光刻机,20年不行,30年!

“李总,布罗迪先生,余总已经拿到美国商务部的同意文件,我们明天前往美国,180nm制程工艺的半导体生产线的基建要加快进度,增加人手,保证11月底完工。”

孙健今天参观的这条bSEc研发和生产的500nm制程工艺半导体生产线的建设工程已经到了设备安装阶段,按照规划,7月下旬将进行试生产。

“好的,董事长!”

“好的,董事长!”

李昌杰和布罗迪都笑了,他们从心底敬佩孙董事长的精明和胆识。

pGcA这次从GcA购买一条180nm制程工艺的半导体生产线是为国智电脑公司生产GZ-cx3准备的,从3月初提交购买申请,pGcA就已经开工大规模基建项目,孙董事长笃定美国商务部这次不会反对GcA的出口申请。

陈永清院士率领国智cpU研究所台式机cpU研发部的600多名研发人员,从去年10月4日就开始研制比肩pentium3和Athlon 700的GZ-cx3。

GZ-cx3设计采用双重独立总线结构,内部集成1000万个晶体管,频率从500mhz开始,后期可以达到1Ghz以上,采用180nm制程工艺生产。

研发费用2.5亿元,耗时10个月。

按照规划,国智cpU研究所今年9月前就能研发成功GZ-cx3,到时候有米没有锅!

这条180nm制程工艺的半导体生产线的基建规模庞大,要是放在美国,最少需要12个月的时间,顺圆地产(京城)集团集中力量,日夜施工,争取在6个月内完成基建工程,进入设备安装阶段,8个月后进行试生产。

GcA提前准备好全套设备,提前运往国内。

不是孙健不想提前购买,也不是差钱,而是担心美国商务部以违反《瓦森纳协定》为由拒绝,一旦申请被否决,最少要等6个月时间才能再申请。

今年2月,GcA和Nikon公司研发的90nm制程工艺的光刻机才量产。

量产后,pGcA才敢向美国商务部申请购买,GcA同时申请出口。

按照美国政府的德行,一般会将90nm制程工艺的GcA光刻机卖给Intel、Amd等美国高科技公司,将180nm制程工艺的GcA光刻机卖给三星和台积电,将250nm制程工艺的光刻机卖给pGcA,但250nm制程工艺的bSEc光刻机已经量产,研制成功180nm制程工艺的bSEc光刻机只是时间问题,一旦研制成功,就不需要耗费巨额美元进口180nm制程工艺的光刻机了!

pGcA上次能买到一条250nm制程工艺的半导体生产线是沾了江领导的光!这次能买到180nm制程工艺的半导体生产线不是美国商务部发善心,而是250nm制程工艺的bSEc光刻机量产起了决定性的作用,加上美国经济开始下滑。

由于贪婪和过度乐观,特别是对互联网兴起推动的数据流量的增长,在1996年美国电信法案生效后的五年里,美国的电信设备公司的投资规模超过5000亿美元,其中大部分是从纳斯达克交易所融资,加上发行公司债券,开始铺设光缆、添加程控交换机和建设无线网络,容量的快速增长大大超过了市场需求的增长。

当网络科技股泡沫破灭后,融资变得困难时,不少公司因为高负债率导致破产清算,债券投资者最多能收回20%的投资。

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